Ускоренная испарительная очистка

Оборудование
Типичный испарительный процесс достаточно долгий, поэтому применяется процесс с более высокой площадью поверхности испарения, “кипящим” от газового потока. Такой процесс относительно быстро движущегося испарения, выигрывает по сравнению со скоростью перемещения газа через простые испарительные башни.

Время пребывания газа в башне, таким образом, гораздо меньше, но это, как правило, компенсируется высоким массопереносом газа турбулентности в «Кипящей» упаковке. Ускоренная испарительная очистка обычно не используются для контроля за запахами из-за короткого времени пребывания газа в башне.
Главное преимущество данного способа в подвижности, что минимизирует агрегацию частиц и нерастворимых отложений.

Очень маленькие частицы, 8 микрон и ниже, будет, однако проходить через весь процесс, не оседая на слое.

С увеличением скорости газа, диаметр башни может быть более узким и более компактным. Однако это может привести к дополнительным затратам, но понесенные затраты оправданы сложностью структуры башни (бака) и капитальных затрат, которые потребуют большее количество расходного материала.
Эффективные функции ускоренной испарительной очистки зависит от скорости потока газа, который поддерживается между указанными минимальными и максимальными уровнями - и это более узкий диапазон, чем в простых испарительных башнях.